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晶圓半導體接觸角測量儀

簡要描述:晶圓半導體接觸角測量儀特別訂制的圓形樣品臺專用于晶圓(Wafer)樣品的測試。通過測試液滴在晶圓樣品表面形成接觸角的大小,來檢測其表面的潔凈程度和評估表面處理的工藝效果。

  • 產(chǎn)品型號:LW-CAMD3-Ø30
  • 更新時間:2024-11-12
  • 訪  問  量: 322

詳細介紹

品牌聯(lián)往檢測圖像放大率300萬
測量精度1°固定樣品臺大小100mm
表面張力測量范圍1000mNm接觸角測量范圍180°
產(chǎn)地類別國產(chǎn)價格區(qū)間2萬-5萬
儀器種類視頻光學接觸角測定儀儀器類型實驗室臺式
表界面張力測量精度0.1mN/m應用領(lǐng)域電子,航天,汽車,電氣,綜合
品牌聯(lián)往設(shè)備功能0.01~1000mN/m

功能概述:

晶圓半導體接觸角測量儀特別訂制的圓形樣品臺專用于晶圓(Wafer)樣品的測試。通過測試液滴在晶圓樣品表面形成接觸角的大小,來檢測其表面的潔凈程度和評估表面處理的工藝效果。

晶圓接觸角測量儀技術(shù)指標:

1.接觸角測量 1.1.分析算法:量高法、量角法、圓環(huán)法、橢圓法、切線法、Y-L

1.2.具有左接觸角、右接觸角和平均接觸角分開測試和比較功能

1.3.具有凹面、凸面、弧面、超親水、超疏水等特殊表面分析功能

1.4.具有不規(guī)則形、非軸對稱本征接觸角的分析功能

1.5.具有自動分析接觸角變化過程的批處理測試功能

1.6.測量范圍:0°~180°

1.7.測量精度:±0.1°

1.8.提供標定塊,可隨時對測量精度進行校準

1.9.測量分辨率:0.001°

2.張力測量 2.1.分析算法:手動法、自動法

2.2.測量范圍:0.012000mN/m

2.3.測量精度:±0.1%

2.4.測量分辨率:0.001mN/m

3.表面能估算 3.1.估算模型:Fowkes、擴展Fowkes、Owens-Wendtvan OSS、Wu調(diào)和平均法、狀態(tài)方程法

3.2.可分別得到固體表面能、色散力、極性力、氫鍵力、范德華分量、路易斯酸分量、路易斯堿分量等

3.3.液體數(shù)據(jù)庫:預置37種常用液體表面張力及其分量數(shù)據(jù),數(shù)據(jù)可直接調(diào)入用于表面能估算

3.4.液體庫數(shù)據(jù)可自行添加、刪除和修改

4.潤濕性分析 4.1.通過液體的表面張力和對固體的接觸角可分析該固體的潤濕程度,包括粘附功、鋪展系數(shù)和粘附張力

5.數(shù)據(jù)管理 5.1.通過試驗模板保存試驗信息、試驗數(shù)據(jù)和圖片

5.2.新建的試驗模板保存后可重復調(diào)入使用

5.3.可對試驗數(shù)據(jù)進行修改、刪除和調(diào)入再分析等

5.4.試驗數(shù)據(jù)可標注于圖片上,并隨圖片一起保存

5.5.試驗結(jié)果可導出至Word、ExcelPDF

6.圖像拍攝 6.1.單張拍攝、連續(xù)拍攝、視頻錄制和圖片回放

6.2.可選擇采用相機外觖發(fā)功能自動拍攝

7.光學成像系統(tǒng) 7.1.相機:300萬像素、幀率200/

7.2.鏡頭:0.74.5×連續(xù)變倍、工作距離320mm

7.3.調(diào)焦范圍:±12.5mm;調(diào)焦精度:0.25mm

7.4.調(diào)焦時軟件自動檢測清晰度,消除人為誤差

7.5.水平和俯仰調(diào)整范圍:±2°

7.6.背光源:黃色LED冷光源+遮光板,亮度無極調(diào)節(jié)

8.滴液系統(tǒng) 8.1.滴液方式:軟件控制進樣器自動滴液和自動升降

8.2.最小滴液量:0.05μl/

8.3.滴液精度:±0.01μl

9.樣品臺 9.1.臺面尺寸:?300mm

9.2.移動行程:X300×Y300×Z50mm

9.3.移動方式:軟件控制樣品臺單點或多點自動定位+手控搖桿任意定位

9.4.樣品臺多點移動的運行參數(shù)可預先設(shè)置并保存,之后可重復調(diào)入使用

10.主機參數(shù) 10.1.尺寸:約W1080×D535×H600mm

10.2.重量:約95kg

10.3.電源:1AC220V 50HZ

晶圓半導體接觸角測量儀標準配置:

1.測控軟件:1

2.控制器:1

3.手控搖桿:1

4.微量進樣器:2

5.儲液瓶:1

6.接觸角標定塊:1

7.水平尺:1

8.工具:1










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